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基本情報
誌面
コーセー先端技術研究所
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日建設計/羽鳥達也+加瀬美和子+松井一哲
概略
同敷地に建っていた既存の研究所と板橋の研究所を集約した先端技術研究所.敷地は低層の住宅が多く建つ住宅地であり,露出したダクトや設備配管,プライバシーなど周囲への配慮のため,複数のパターンを組み合わせた煉瓦の透かし積みスクリーンによって,ファサードを構成.
所在地
日本
|
東京都
掲載誌
新建築 2019年9月号
162P
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